北京理工大学2026年3至9月政府采购意向-超高真空多靶材磁控溅射系统详细情况
- 2026-01-30
项目名称: 北京理工大学2026年3至9月政府采购意向-超高真空多靶材磁控溅射系统详细情况
招标公司: 北京理工大学
采购标的物: 超高真空多靶材磁控溅射系统、电子工业生产设备
项目地区：北京 北京
超高真空多靶材磁控溅射系统
项目所在采购意向： 北京理工大学2026年3至9月政府采购意向
采购单位： 北京理工大学
采购项目名称： 超高真空多靶材磁控溅射系统
预算金额： 147.000000万元(人民币)
采购品目：
A02330300电子工业生产设备
采购需求概况：
超高真空多靶材磁控溅射系统1套，概括要求如下：1)圆柱体不锈钢超高真空反应腔体2)3个2英寸超高真空共溅射靶枪接口，配置3个共焦溅射靶枪，向上溅射；3)真空系统：涡轮分子泵和干泵组合，极限真空可达到5x10-8 Torr4)样品台可容纳最大4英寸基片，推荐温度范围:室温到 800°C，温控精度±1℃，配备马达，实现 360 度可调速度的旋转，配合倾斜溅射改善均匀性5)2个500W直流电源 + 1个300W射频电源6)3路工艺气体Ar,N2, O27)自动压力控制插板阀，采用下游压力控制8)PLC控制系统9)薄膜均匀性：≤±2.5%具体要求详见采购文件。 供货期：签订合同之日起，6个月货到采购人指定地点并安装验收完毕。（包括供货，安装，调试，验收合格所需时间）。具体事宜由成交供应商按采购人指定地点及时间安排要求执行。
预计采购时间： 2026-06
备注：
本次公开的采购意向是本单位政府采购工作的初步安排，具体采购项目情况以相关采购公告和采购文件为准。
